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| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 綜合 |
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AP Tech熱離子發射陰極
數十年的研究、開發和電子源制造，AP TECH對電子發射物理學的深入了解使我們成為商用熱敏、場發射和熱場發射陰極生產商，這些產品用于顯微鏡、微量分析、X 射線生成、光刻、增材制造或任何其他需要高亮度源的電子束應用。
在熱離子狀態下工作的陰極被加熱到高溫。當電子具有足夠的熱能來克服制造陰極的材料的功函數時，就會發生發射。
AP Tech熱離子發射陰極
Applied Physics Technologies的熱離子陰極由六硼化鑭（LaB6）和六硼化鈰（CeBix®）制成。LaB6和CeBix®都是低功函數材料，可生產相對高亮度的陰極，有適度的真空要求和較長的保質期。這些陰極在高達20A/cm2的電流密度下提供長期、穩定的操作，使其非常適合小光斑應用，如SEM、TEM、電子束滅菌、表面分析和計量，以及大電流應用，如x射線生成、光刻和增材制造。
在APT，我們在內部種植和制造我們自己的高質量單晶LaB6和CeBix®，使用一種生產商業上最純和功函數材料的工藝。經過精煉，我們的硼化物可以定制成各種形狀，具有不同的加熱、安裝和底座配置，所有這些都是為了滿足客戶的操作和性能要求而設計的。
由于功函數LaB6略低，CeBix®陰極在略低的工作溫度下產生更高的電流。因此，CeBix®光源的亮度略高，使用壽命更長。APT是世界上陰極生產商。
Applied Physics Technologies還可以分別提供LaB6和CeBix®單晶棒和單晶盤。
使用此圖表可比較我們的 TE、CFE 和 TFE 離子源的一般操作要求和性能規格
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