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| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 化工,能源,電子/電池,電氣,綜合 |
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LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)-RVL2000
自1998年以來，LK一直在全球范圍內提供*LEED低能電子衍射儀系統。
低能電子行射(LEED)儀是一種基本的表面儀器。它是分析表面結構的有效工具。它不僅能夠研究清潔的單晶(金屬、半導體及絕緣體)的表面結構,還能研究氣體吸附的結構。圖1是它的工作原理圖。在超高真空條件下,低能電子槍發射的電子束垂直打到樣品上,被樣品表面上晶體點陣反向散射,在一定的條件下,背散射的彈性電子形成許多行射場分析器(RFA)拒斥非彈性電子,只允許行射束通過并在熒光屏上形成許多光斑。
LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)RVL2000低能電子衍射儀(LEED)的精密反向LEED低能電子衍射儀光學元件采用所有UHV結構，無需使用玻璃纖維或聚合物涂層線束。提供完整系列的型號和選件，包括低電流（nA，pA）MCP型號。所有光學器件均采用4網格結構，以實現與俄歇電子能譜AES連用
采用4格鎢光學元件的精密結構
微型1.59厘米直徑電子槍
103度可用視角
0.5％的能量分辨率
提供可伸縮光學元件（標準2英寸和最大4英寸縮回）
安裝法蘭具有整體視口和電氣穿通裝置
與UHV兼容（不使用聚合物涂層或玻璃纖維絕緣線）
低噪音，高性能的俄歇電子設備，帶有集成鎖定放大器
MCP版本的pA和nA電流水平
全系列選項包括低調快門，CCD攝像頭和軟件，6英寸和8英寸外徑法蘭型號
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